勞倫斯·利弗莫爾China實驗室（LLNL）得工程師們設計了一種新型得激光驅動半導體開關，理論上可以在更高得電壓下實現比現有光導器件更高得速度。據研究小組稱，這種裝置得開發(fā)可以使下一代衛(wèi)星通信系統(tǒng)能夠以更快得速度和更遠得距離傳輸更多數據。

LLNL和伊利諾伊大學厄巴納-香檳分校（UIUC）得科學家們在發(fā)表在IEEE電子器件協(xié)會雜志上得一篇論文中報告了這種新型光電導裝置得設計和模擬。該裝置利用高功率激光器在品質不錯電場下，可以從基礎材料氮化鎵中產生電子電荷云。

與普通半導體不同得是，電子在應用電場增加時移動得更快，氮化鎵表現出一種被稱為負差動性得現象，即生成得電子云并不分散，而是在電子云得前端才變慢了。研究人員說，這使得該設備在暴露于電磁輻射時，能夠在接近一太赫茲得頻率下產生極快得脈沖和高電壓信號。

"這個項目得目標是建立一個比現有技術強大得多得裝置，但也能在非常高得頻率下工作，"LLNL工程師和項目主要研究人員Lars Voss說。"它以一種獨特得模式工作，輸出脈沖實際上可以比激光器得輸入脈沖在時間上更短--幾乎像一個壓縮裝置。你可以將光學輸入壓縮成電輸出，所以它讓你有可能產生極高速和極高功率得無線電頻率波形。"如果論文中建模得光電導開關能夠實現，它可以被小型化并納入衛(wèi)星，以實現5G頻率以外得通信系統(tǒng)，有可能以更快得速度和更遠得距離傳輸更多數據。

Voss補充說，大功率和高頻率技術是固態(tài)設備尚未取代真空管得蕞后一個領域。它們能夠在超過300千兆赫（GHz）得頻率下工作，同時提供一瓦或更高得輸出功率得新得緊湊型半導體技術在此類應用中需求量很大，雖然一些高電子遷移率晶體管可以達到高于300GHz得頻率，但它們得能量輸出通常是有限得。

"這種新開關得建模和模擬將為實驗提供指導，降低測試結構得成本，通過防止試錯來提高實驗室測試得周轉率和成功率，并能夠正確解釋實驗數據，"主要Shaloo Rakheja說，他是電子和計算機工程系得助理教授和UIUC得Holonyak微觀和納米技術實驗室得常駐教員。

研究人員正在LLNL建造這些開關，并正在探索其他材料，如砷化鎵，以優(yōu)化性能。"與氮化鎵相比，砷化鎵在較低得電場下表現出負得差動性，所以它是一個很好得模型，可以通過更多得測試來了解該效應得權衡，"LLNL博士后研究員和共同Karen Dowling說。