原標(biāo)題：臺(tái)積電7/6/5nm工藝供不應(yīng)求 投入巨資購買EUV光刻機(jī) 來源：快科技
等大客戶需求。
為此臺(tái)積電2020年的資本開支再創(chuàng)新高，2019年臺(tái)積電將資本開支提升到了140-150億美元，相比之前增加了40億美元，而2020年至少是150-160億美元，是史上最高的資本支出。
巨額資本主要用于擴(kuò)增先進(jìn)工藝產(chǎn)線，除了7nm滿載之外，今年還會(huì)有6nm工藝及5nm工藝，尤其是后者，蘋果的A14、華為的海思麒麟1020芯片都會(huì)上5nm工藝。
為此臺(tái)積電正在加快設(shè)備購買，主要受益的廠商就是ASML、KLA科磊、應(yīng)用材料等公司，他們供應(yīng)的光刻機(jī)、蝕刻機(jī)等都是制造芯片的重要裝備。
這其中，ASML的EUV光刻機(jī)無疑是最關(guān)鍵的，臺(tái)積電的第二代7nm工藝、5nm工藝都會(huì)大量使用EUV光刻機(jī)，這種設(shè)備只有ASML能產(chǎn)，每臺(tái)售價(jià)超過1.2億美元。
根據(jù)ASML公司發(fā)布的財(cái)報(bào)，2019年全年一共出貨了26臺(tái)EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)2020年交付35臺(tái)EUV光刻機(jī)，2021年則會(huì)達(dá)到45臺(tái)到50臺(tái)的交付量，是2019年的兩倍左右。
